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问题：去除二氧化硅杂质方法
类型：求助 (悬赏分:3分)
提问：wanhy
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版块：无机化学(mitang,lmybenny,wanghong,llscmary,abingchem,)
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阅读：2460
时间：2005-11-25 14:38:46 编辑加入/取消收藏订制/取消短消息举报该贴

由于我的实验样品中混有sio2杂质，想把它去除。
我现在有两种方法
1、将样品放入氢氧化钠溶液中去，适当加热
2、将样品放入HF酸中，
不知道以上哪中方法对于去除二氧化硅效果比较好，希望知道的兄弟姐妹能够指点一下。
还有我查资料看到有说氢氧化钠只能与少量的sio2反应，之后二氧化硅就回溶解在氢氧化钠溶液中不反应，形成na2sio3，不知道是不是这么回事，还请大家帮助啊
谢谢

回复人：wanhy,▲ (我爱科研) 时间：2006-03-27 16:09:12 编辑	1楼
希望大家帮帮忙指点一下啊谢谢

回复人：自在,▲ (大学专业高分子材料应用科学，经历了两人的洗涤剂、化妆品生产与品质管理工作，现从事足浴保健品销售) 时间：2006-05-11 20:21:09 编辑	2楼
根据实验样品的主要成分选择1,2方法.如果主要成分是酸性物质就选择2如果是碱性物质就选择1.如果是两性的化就再论

回复人：walterdog,▲ (化工专业中石油一年轻的工程师) 时间：2006-06-20 18:05:05 编辑	3楼
如果用HF的话，反应设备应该需要什么，是不是不能用烧杯反应，而应该用塑料杯反应，反应后生成的HF4应该怎么去除，用水洗还是加热让其挥发，多少度挥发比较合适呢通常是用镍坩埚或者白金坩埚装了样品然后滴加HF酸，电炉加热挥发出SiF4去除它的影响

回复人：ycs6420,▲ () 时间：2006-06-23 12:27:08 编辑	4楼
你如果用有水氢氟酸，和二氧化硅反应会生成氟硅酸，溶于水中，你将实验样品过滤洗涤即可。如果用无水氢氟酸，生成的四氟化硅没有水存在时常温下是气体。实验可用塑料杯，采用聚四氟乙烯可耐180℃。

回复人：Ftian,★★ (资料请发到我的邮箱里，这里封纳米盘。) 时间：2006-06-23 12:43:10 编辑	5楼
玻璃杯是肯定不能用的,因为它就是SiO2材料的. 我觉得用HF更好些,但HF是很毒的,且易挥发.需要防护. HF会和SiO2反应生成SiF4(气体),过量的HF会和SiF4反应生成H2SiF6(溶于水),所以,你先在常温下试试,直接加HF,搅拌,基本上可以除去杂质.

回复人：wanhy,▲ (我爱科研) 时间：2006-07-15 17:10:20 编辑	6楼
已经打分了。

回复人：wangjinyon,★ (化工成就了我,我会成就化工) 时间：2005-11-25 18:37:10 编辑	7楼
2、将样品放入HF酸中好

回复人：兔乖乖,★ (大四……从有机转行做纳米……) 时间：2005-11-25 19:06:42 编辑

8楼

二氧化硅就回溶解在氢氧化钠溶液中不反应，形成na2sio3，如果你的样品是不溶于水且不和na2sio3反应的固体，可以用水洗过滤就能除去na2sio3。
用HF理论上应该更好，但前提也是你的样品是不溶于水的固体，且不和HF反应，HF的配合能力还不错，能和许多东西生成配合物。
不过还是要取决于你的样品是什么。

回复人：*元*素*,▲▲▲ () 时间：2005-11-25 19:54:01 编辑

9楼

氢氧化钠、氢氟酸均可以用的话，当然是氢氟酸效果好
1：HF与SiO2反应，得到的是很容易挥发的SiF4，分离起来特别容易
2：氢氧化钠和SiO2反应要求高浓度的碱，而HF低浓度就可以，用低浓度的HF得到挥发性的SiF4比较少，但用碱产生硅酸钠也要分离
但用HF也有不好的一面
1：设备要求比碱高的多
2：毒性比碱大，环境保护难度加大

回复人：wanhy,▲ (我爱科研) 时间：2005-11-26 02:07:44 编辑

10楼

样品和HF，NaOH均不反应
如果用HF的话，反应设备应该需要什么，是不是不能用烧杯反应，而应该用塑料杯反应，反应后生成的HF4应该怎么去除，用水洗还是加热让其挥发，多少度挥发比较合适呢
如果NaOH的话，浓度应该在多少比较合适呢，需不需要加热，加热到多少比较合适，还有反应后生成的Na2sio3如果用水洗能洗干净吗
希望大家能帮助一下
谢谢

回复人：wanhy,▲ (我爱科研) 时间：2005-11-29 08:19:18 编辑	11楼
哪位兄弟姐妹帮帮忙啊谢谢

得分人：wangjinyon-1,兔乖乖-1,*元*素*-3,

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