问题：有关脱保护问题！
类型：求助 (悬赏分:3分)
提问：zhangxl199
等级：▲
版块：有机合成(netpanda,yjgzfl,penance,)
信誉：57%
回复：3
阅读：493
时间：2005-02-22 11:58:57 编辑加入/取消收藏订制/取消短消息举报该贴

羟基用PhCH2O-保护后有什么脱保护的方法，比较简单易行的。条件不要太严格的。
你们都用过什么方法？
谢谢！

回复人：netpanda,▲▲▲ (CHEM-IS-TRY!永远的求知者) 时间：2005-02-22 13:56:38 编辑	1楼
脱PhCH2O-的方法,常用的有加氢啊.在常温常压或者稍加压力下,反应过夜即可!

回复人：zhangxl199,▲ (有机与生物化学的交叉) 时间：2005-02-22 14:06:14 编辑	2楼
谢谢楼上的帮助！可我不能采取加氢的方法，我的分子里有一个活泼的双键，会受影响。我想用三溴化硼的方法在0度下，不知能否脱去。注：我的分子有一双键，还有一内酯结构。且我是两个羟基被保护上了。谢谢！

回复人：whc,▲▲ (初入有机合成，经验不多，望高手门多指教) 时间：2005-12-21 09:50:34 编辑	3楼
你的方法可能有效，试试吧。

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