问题：CVD和MOCVD都是什么工艺阿？求举例。
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提问：usmelon
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时间：2005-10-20 12:40:20 编辑加入/取消收藏订制/取消短消息举报该贴

可以简单介绍并举例吗？

回复人：qixie,★ () 时间：2005-10-20 16:27:17 编辑	1楼
MOCVD为有机金属化学气相沉积磊晶技术，它是利用有机金属如：三甲基镓、三甲基铝等，与特殊气体如：砷化氢、磷化氢等，在反应器内进行化学反应，并使反应物沉积在芯片上，而得到磊芯片之生产技术

回复人：qixie,★ () 时间：2005-10-20 16:28:40 编辑

2楼

http://www.qiji.cn/eprint/abs/912.html这里有pdf文件下载
用MOCVD方法制备La2O3薄膜及其性能的研究
作者：程进波,李爱东(南京大学材料系)
摘要/内容：
本文主要介绍在硅衬底上用MOCVD方法生长La2O3薄膜。文中对薄膜的生长条件、界面性能及电学性能进行了研究。在600℃下生长的非晶La2O3薄膜表现出良好的均匀性（RMS=0.2nm）和较大的能隙（Eg=6.18eV），这是由于在硅及薄膜的界面生成了La-Si-O界面层。由于薄膜在空气中容易吸收水汽和二氧化碳而变质，我们在La2O3薄膜的表面引入了一层Al2O3保护薄层，最终得到了等效氧化物为1.8nm的薄膜。

回复人：qixie,★ () 时间：2005-10-20 16:31:11 编辑	3楼
Chemical Vapor Deposition (CVD)化学气相沉积法 CVD金刚石是用化学气相沉积法生长的大尺寸片状多晶金刚石，具有高硬度、高导热、高电阻、化学性质稳定等优良性能。产品加工规格范围广，机械性能兼具单晶金刚石和聚晶金刚石的优点

回复人：asjxcn,▲▲▲ () 时间：2005-10-22 15:46:28 编辑

4楼

两者都是可用来制膜的工艺，CVD历史较长，以前机械行业表面加工、处理用的较多，但两者应该说是有联系的，它们都有相应的成熟设备。MOVCD是随着现代新型功能材料的发展发展起来的，如光、电、磁传感器、光致发光、电致发光元器件、光电转换膜等。当你打开电脑的时候，可别忘了，那闪闪发亮的红绿二极管可是用MOCVD工艺做出来的哦。

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